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新品 ASML 4022.455.16371 レーザーモジュール

高精度で安定した性能

産業オートメーションに適しています

在庫あり & 世界中へ迅速配送

商品番号:
4022.455.16371
注文(MOQ):
1
支払い:
100% T/T
製品の起源:
Netherlands
色:
As Model
出荷港:
Xiamen
リードタイム：
2-3 days

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新製品

製品詳細

説明:

DUV/EUVリソグラフィシステム向けのオリジナルASMLレーザーモジュール。レーザーエミッター、光学系、および制御電子回路を統合し、超高精度なビーム生成、アライメント、計測を実現。先端ノード半導体製造における重要なOEMコンポーネント。

主な仕様:

超高精度および安定性：ナノメートルレベルのビーム位置決め精度；波長安定性 ≤ ±0.01 nm；7nm/5nm/3nmの先端ノードに対応。
マルチ波長対応：DUV（193nm ArF / 248nm KrF）およびEUV（13.5nm）スペクトルをカバー；EUVポンプレーザー用のオプションとして赤外線（10.6μm CO₂）も対応。
統合光学設計：高性能レンズ、ミラー、回折格子、ビームスプリッターを内蔵；リアルタイムビーム補正（≤0.5 nm RMS）により一貫した露光を実現。
スマート電子制御：オンボードレーザードライバー、温度コントローラーおよび電力制御機能；プロセス要件に応じた動的出力調整（10%–100%）。
クリーンルームグレードの信頼性：完全密閉構造、ISOクラス1クリーンルーム準拠；最小ドリフトで24時間365日稼働；重要回路にトリプル冗長設計。
高速同期：最大100 kHzのパルス周波数；タイミング同期誤差

典型的な用途:

DUV浸漬リソグラフィ（TWINSCAN NXT:2000i/2100i）
EUVリソグラフィ（NXE:3400B / EXE:5200）
ウェーハ計測および検査システム
フォトマスク／レチクルのアライメントおよび検査
先端半導体プロセスR&D

FAQ:

Q1:製品の状態と保証はどのようになっていますか？
A:新品の正規品です。1年間の保証が付属します。

Q2:支払い条件は何ですか？
A:T/T、Paypalに対応しています。

Q3:製品の納期はどのくらいですか？在庫は十分にありますか？
A:標準モデルは在庫があり、支払い後3〜5営業日以内に出荷されます。希少モデルはメーカー発注が必要なため、納期はカスタマーサービスにお問い合わせください。

Q4:配送と追跡
A:DHL/FedEx/UPSが利用可能です。出荷後に追跡番号とリンクを提供します。全プロセスを当社チームが監視します。

Q5:梱包と安全性